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工作職責

1.光刻工藝條件開發,保障光刻測試穩定性；

2.對光刻測試的異常可以獨立分析,保障測試結果的可靠性；

3.能夠獨立完成測試報告,并且對測試數據進行分析,得出結論；

4.進行光刻工藝改善,對研發部門給出改善建議,推進研發進度；

5.參與光刻設備維護,調試,按時移交滿足產能需求。

能力要求

1.掌握NIKON,CANON,ASML的Krf系列曝光設備操作方法；

2.掌握突覺顯影劑Lithius及以上型號的設備操作方法及程序編輯；

3.掌握日立HITCHAI系列CDSEM使用方法；

4.了解膜厚儀的測量,了解光刻膠切片設備；

5.具有良好的溝通能力,團隊合作精神。

任職資格

1.具有2年以上光刻工藝經驗-FAB工作經驗優先；

2.本科及以上學歷,化學/微電子/光學等相關專業。